CMP401

制造商：ADI/AD

产品信息

应用案例更多案例

• NVIDIA CMP官方矿卡算力曝光 能效率远不如RTX 30

  ...手了：RTX 3060挖矿效率刻意降低一半，同时推出专用矿卡CMP（加密货币加密处理器）。 NVIDIA表示，CMP不做图形处理，没有显示输出，核心峰值电压和频率更低，一切只为挖矿而生，主要是以太坊，由授权合作伙伴销售。   根据...

  2021-02-20
• 博世选择CMP200无线通信测试仪用于汽车超宽带验证

  博世集团选择罗德与施瓦茨(以下简称“R&S”公司)CMP200无线通信测试仪，用于在汽车生产中验证超宽带(UWB)应用。该项目是博世和R&S在无线通信领域长期合作项目的一个延续。

  2022-03-04
• CMP抛光垫有哪些重要指标？

  CMP（Chemical Mechanical Polishing）即“化学机械抛光”，是为了克服化学抛光和机械抛光的缺点

  2023-12-05
• 如何使用AT32F415比较器(CMP)？

  如何使用AT32F415比较器(CMP)？

  2023-11-02
• CMP抛光液市场高速增长，到2023年市场规模将达到25亿美元

  得益于半导体业界的繁荣，世界cmp抛光液市场正在经历明显的增长。cmp抛光液是半导体制造中的关键成分，在实现集成电路制造的精度和效率方面发挥了关键作用。随着技术的发展，半导体的格局不断重新形成，对cmp抛光液的需求从来没有这么高过。

  2023-09-14
• 如何实现CMP步骤的仿真？广立微重磅发布CMPEXP建模工具

  近日，为填补国内集成电路市场上产业化CMP建模工具的空白，满足芯片设计公司和晶圆制造厂的需求，广立微正式推出CMP EXPLORER（简称“CMPEXP”）工具，保障芯片的可制造性和成品率，解决行业的痛点。

  2023-08-28
• CMP的概念、重要性及工作原理

  化学机械抛光（CMP）是晶圆制造的关键步骤，其作用在于减少晶圆表面的不平整，而抛光液、抛光垫是CMP技术的关键耗材，价值量较高，分别占CMP耗材49%和33%的价值量，其品质直接影响着抛光效果，因而

  2023-08-02
• cmp是什么意思 cmp工艺原理

  CMP 主要负责对晶圆表面实现平坦化。晶圆制造前道加工环节主要包括7个相互独立的工艺流程：光刻、刻蚀、薄膜生长、扩散、离子注入、化学机械抛光、金属化 CMP 则主要用于衔接不同薄膜工艺，其中根据工艺

  2023-07-18

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