0
KENWOOD
光刻和离子注入是晶体管制造工艺中的两个关键步骤。光刻利用光致抗蚀剂感光后因光化学反应形成耐蚀性的特点，将掩模板上的图形刻制到被加工表面上。光刻过程包括涂胶、曝光、显影等步骤，其工艺水平直接决定芯片的制程精度。离子注入则是一种在半导体制造中起到关键作用的技术，通过将杂质离子加速并注入硅晶体中，改变硅的微观结构，实现导电性。离子注入可以形成n型和p型区域，结合形成PN结，使硅从绝缘体转变为半导体。半导体材料的导电率可以通过掺杂物控制，这是制造晶体管和其他半导体器件的基础。
工商网监